XECL EXCIMER LASER ANNEALING USED IN THE FABRICATION OF POLY-SI TFTS

被引：447

作者：

SAMESHIMA, T ^{[1
]}

USUI, S ^{[1
]}

SEKIYA, M ^{[1
]}

机构：

[1] SONY CORP,DIV ADV ENGN-00S,YOKOHAMA,KANAGAWA 240,JAPAN

来源：

IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS | 1986年 / 7卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1109/EDL.1986.26372

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

收藏

页码：276 / 278

页数：3

相关论文

共 8 条

[1] OPTICAL CHARACTERIZATION OF AMORPHOUS-SILICON HYDRIDE FILMS
CODY, GD
WRONSKI, CR
ABELES, B
STEPHENS, RB
BROOKS, B
[J]. SOLAR CELLS, 1980, 2 (03): : 227 - 243
[2] MATSUI M, 1982, JAPAN J APPL PHY S22, V22, P497
[3] MATSUI M, 1982, 14TH P C SOL STAT DE
[4] Morozumi S., 1983, SID 83, P156
[5] OANA Y, 1982, 14TH P C SOL STAT DE
[6] OANA Y, 1982, JPN J APPL PHYS, V22, P493
[7] APPLICATION OF AMORPHOUS-SILICON FIELD-EFFECT TRANSISTORS IN ADDRESSABLE LIQUID-CRYSTAL DISPLAY PANELS
SNELL, AJ
MACKENZIE, KD
SPEAR, WE
LECOMBER, PG
HUGHES, AJ
[J]. APPLIED PHYSICS, 1981, 24 (04): : 357 - 362
[8] UGAI Y, 1984, SID S, P308