CLEAVING PROCESS OF GAAS WAFERS

被引：3

作者：

KUMABE, K

OHMACHI, Y

MATSUMOTO, N

MOTOSUGI, G

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1978年 / 17卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.17.587

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：587 / 588

页数：2

相关论文

共 1 条

[1] SHORT CAVITY SEMICONDUCTOR-LASER [J].

MATSUMOTO, N ;

ANDO, S .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1977, 16 (09) :1697-1698