WAVELENGTH DEPENDENCE OF PHOTOREFRACTIVE PROCESS IN DOPED LINBO3

被引：9

作者：

KURZ, H ^{[1
]}

机构：

[1] PHILIPS FORSCH LAB GMBH,HAMBURG 54,WEST GERMANY

来源：

FERROELECTRICS | 1974年 / 8卷 / 1-2期

关键词：

D O I：

10.1080/00150197408234119

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：437 / 439

页数：3

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