A STUDY OF HCL-H-2 AND GECL4-H-2 ETCHING OF GERMANIUM SUBSTRATES FOR EPITAXIAL DEPOSITION

被引：18

作者：

MILLER, KJ

GRIECO, MJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2426326

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1099 / 1101

页数：3

共 19 条

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