MICROCRYSTALLINE SI - H-FILM AND ITS APPLICATION TO SOLAR-CELLS

被引：41

作者：

UCHIDA, Y

ICHIMURA, T

UENO, M

HARUKI, H

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1982年 / 21卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.21.L586

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L586 / L588

页数：3

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[1] LOW-TEMPERATURE CRYSTALLIZATION OF DOPED A-SI-H ALLOYS [J].

HAMASAKI, T ;

KURATA, H ;

HIROSE, M ;

OSAKA, Y .

[2]

HOVEL H, 1975, SEMICONDUCTERS SEMIM, V2, P203

[3]

MATZUDA A, 1980, JPN J APPL PHYS, V20, pL183

[4] PROPERTIES OF MICROCRYSTALLINE P-DOPED GLOW-DISCHARGE SI-H FILMS [J].

UCHIDA, Y ;

ICHIMURA, T ;

UENO, M ;

OHSAWA, M .

JOURNAL DE PHYSIQUE, 1981, 42 (NC4) :265-268

[5]

WOLF E, 1970, PROGR OPTICS, pCH4