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O2 AND CO INTERACTION WITH ALUMINUM FILMS GROWN ON TA(110)
被引:9
作者
:
JACKSON, AG
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JACKSON, AG
HOOKER, MP
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HOOKER, MP
HAAS, TW
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HAAS, TW
机构
:
来源
:
SURFACE SCIENCE
|
1968年
/ 10卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0039-6028(68)90030-7
中图分类号
:
O64 [物理化学(理论化学)、化学物理学];
学科分类号
:
070304 ;
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:308 / &
相关论文
共 4 条
[1]
LOW-ENERGY ELECTRON DIFFRACTION OBSERVATIONS OF ALPHA-ALUMINA
[J].
CHARIG, JM
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CHARIG, JM
.
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1967,
10
(05)
:139
-&
[2]
HAAS T, IN PRESS
[3]
ADSORPTION ON NIOBIUM (110) TANTALUM (110) AND VANADIUM (110) SURFACES
[J].
HAAS, TW
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HAAS, TW
;
JACKSON, AG
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HOOKER, MP
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HOOKER, MP
.
JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS,
1967,
46
(08)
:3025
-&
[4]
JONA F, TO BE PUBLISHED
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[1]
LOW-ENERGY ELECTRON DIFFRACTION OBSERVATIONS OF ALPHA-ALUMINA
[J].
CHARIG, JM
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0
CHARIG, JM
.
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1967,
10
(05)
:139
-&
[2]
HAAS T, IN PRESS
[3]
ADSORPTION ON NIOBIUM (110) TANTALUM (110) AND VANADIUM (110) SURFACES
[J].
HAAS, TW
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HAAS, TW
;
JACKSON, AG
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JACKSON, AG
;
HOOKER, MP
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HOOKER, MP
.
JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS,
1967,
46
(08)
:3025
-&
[4]
JONA F, TO BE PUBLISHED
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