MODELING OF A GAS-LIQUID TANK PHOTOREACTOR IRRADIATED FROM THE BOTTOM .1. THEORY

被引:5
作者
ALFANO, OM
CASSANO, AE
机构
[1] UNIV NACL LITORAL,INTEC,INST DESARROLLO TECHNOL IND QUIM,CASILLA CORREO 91,RA-3000 SANTA FE,ARGENTINA
[2] CONSEJO NACL INVEST CIENT & TECN,RA-3000 SANTA FE,ARGENTINA
关键词
D O I
10.1021/ie00079a001
中图分类号
TQ [化学工业];
学科分类号
0817 ;
摘要
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页码:1087 / 1095
页数:9
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