ELECTRON-GUN EVAPORATORS OF REFRACTORY-METALS COMPATIBLE WITH MOLECULAR-BEAM EPITAXY

被引：5

作者：

HEIBLUM, M

BLOCH, J

OSULLIVAN, JJ

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1985年 / 3卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.572939

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1885 / 1886

页数：2

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共 5 条

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