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A METHOD OF FORMING CONTACTS BETWEEN 2 CONDUCTING LAYERS SEPARATED BY A DIELECTRIC
被引:9
作者
:
SIRKIN, ER
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
XEROX CORP,PALO ALTO RES CTR,PALO ALTO,CA 94304
XEROX CORP,PALO ALTO RES CTR,PALO ALTO,CA 94304
SIRKIN, ER
[
1
]
BLECH, IA
论文数:
0
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0
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0
机构:
XEROX CORP,PALO ALTO RES CTR,PALO ALTO,CA 94304
XEROX CORP,PALO ALTO RES CTR,PALO ALTO,CA 94304
BLECH, IA
[
1
]
机构
:
[1]
XEROX CORP,PALO ALTO RES CTR,PALO ALTO,CA 94304
来源
:
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
|
1984年
/ 131卷
/ 01期
关键词
:
D O I
:
10.1149/1.2115491
中图分类号
:
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
:
081704 ;
摘要
:
引用
收藏
页码:123 / 125
页数:3
相关论文
共 2 条
[1]
DEPOSITION OF SILICON DIOXIDE FILMS AT REDUCED PRESSURE
[J].
ADAMS, AC
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
Bell Laboratories, Murray Hill
ADAMS, AC
;
CAPIO, CD
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
Bell Laboratories, Murray Hill
CAPIO, CD
.
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1979,
126
(06)
:1042
-1046
[2]
Kitcher J. R., 1980, IBM Technical Disclosure Bulletin, V23
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共 2 条
[1]
DEPOSITION OF SILICON DIOXIDE FILMS AT REDUCED PRESSURE
[J].
ADAMS, AC
论文数:
0
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0
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0
机构:
Bell Laboratories, Murray Hill
ADAMS, AC
;
CAPIO, CD
论文数:
0
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0
h-index:
0
机构:
Bell Laboratories, Murray Hill
CAPIO, CD
.
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY,
1979,
126
(06)
:1042
-1046
[2]
Kitcher J. R., 1980, IBM Technical Disclosure Bulletin, V23
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