BOMBARDMENT-ENHANCED DIFFUSION OF ARSENIC IN SILICON

被引：24

作者：

MABY, EW ^{[1
]}

机构：

[1] RCA LABS,PRINCETON,NJ 08540

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.322716

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：830 / 836

页数：7

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