PHOTOLEITFAHIGKEIT VON CAWO4-EINKRISTALLEN

被引：9

作者：

REIBER, K

SCHARMANN, A

机构：

来源：

ZEITSCHRIFT FUR PHYSIK | 1966年 / 191卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1007/BF01326825

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：480 / +

页数：1

共 17 条

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