SOME FACTORS AFFECTING DEPTH PROFILING MEASUREMENTS USING AUGER-ELECTRON SPECTROSCOPY

被引：12

作者：

HOOKER, MP ^{[1
]}

GRANT, JT ^{[1
]}

机构：

[1] UNIVERSAL ENERGY SYST INC,MEDWAY,OH 45341

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0039-6028(75)90259-9

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：328 / 332

页数：5

相关论文

共 3 条

[1] COMPARISON OF AUGER-SPECTRA OF MG, AL, AND SI EXCITED BY LOW-ENERGY ELECTRON AND LOW-ENERGY ARGON-ION BOMBARDMENT
GRANT, JT
HOOKER, MP
SPRINGER, RW
HAAS, TW
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (01): : 481 - 484
[2] GRANT JT, TO BE PUBLISHED
[3] USE OF AUGER-ELECTRON SPECTROSCOPY AND INERT-GAS SPUTTERING FOR OBTAINING CHEMICAL PROFILES
PALMBERG, PW
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1972, 9 (01): : 160 - &