COMPOUND SPUTTERING CATHODES OF REFRACTORY-METAL SILICIDES AND THIN-FILM PRODUCED

被引：5

作者：

HOO, HL

AVINS, JB

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.582963

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1692 / 1695

页数：4

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共 6 条

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