WAFER CLEANING WITH PHOTOEXCITED CHLORINE AND THERMAL-TREATMENT FOR HIGH-QUALITY SILICON EPITAXY

被引：12

作者：

WATANABE, S

SUGINO, R

YAMAZAKI, T

NARA, Y

ITO, T

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1989年 / 28卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.28.2167

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2167 / 2171

页数：5