MICROWAVE AND RF SURFACE-WAVE SUSTAINED DISCHARGES AS PLASMA SOURCES FOR PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING

被引:91
作者
CHAKER, M
MOISAN, M
ZAKRZEWSKI, Z
机构
关键词
D O I
10.1007/BF00573823
中图分类号
TQ [化学工业];
学科分类号
0817 ;
摘要
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页数:18
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