MASS AND ENERGY-DEPENDENCE OF IMPLANTED ION PROFILES IN THE AZ111 PHOTORESIST

被引：29

作者：

GUIMARAES, RB ^{[1
]}

BEHAR, M ^{[1
]}

LIVI, RP ^{[1
]}

DESOUZA, JP ^{[1
]}

ZAWISLAK, FC ^{[1
]}

FINK, D ^{[1
]}

BIERSACK, JP ^{[1
]}

机构：

[1] HAHN MEITNER INST KERNFORSCH BERLIN GMBH,D-1000 BERLIN 39,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.337304

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1322 / 1324

页数：3

共 6 条

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