NEW X-RAY MASK OF AL-AL2O3 STRUCTURE

被引：7

作者：

FUNAYAMA, T ^{[1
]}

TAKAYAMA, Y ^{[1
]}

INAGAKI, T ^{[1
]}

NAKAMURA, M ^{[1
]}

机构：

[1] FUJITSU LABS LTD,1015 KAMIKODANAKA,KAWASAKI 211,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.568529

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页数：1