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REACTIVE ION ETCHING OF AL AND AL-SI FILMS WITH CCL4, N2, AND BCL3 MIXTURES
被引:4
作者
:
MAA, JS
论文数:
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0
MAA, JS
ONEILL, JJ
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ONEILL, JJ
机构
:
来源
:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
|
1983年
/ 1卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1116/1.572196
中图分类号
:
TB3 [工程材料学];
学科分类号
:
0805 ;
080502 ;
摘要
:
引用
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页码:636 / 637
页数:2
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