UV PHOTOLYSIS OF CFCL3 AND CF2CL2 IN PRESENCE OF RADICAL INTERCEPTORS

被引：11

作者：

HAUTECLOQUE, S ^{[1
]}

BERNAS, A ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV PARIS 11,CNRS,EQUIPE RECH 98,F-91405 ORSAY,FRANCE

来源：

JOURNAL OF PHOTOCHEMISTRY | 1977年 / 7卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1016/0047-2670(77)80001-4

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：73 / 81

页数：9

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共 14 条

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