FUSED GLASS PENETRATION INTO THERMALLY GROWN SILICON DIOXIDE FILMS

被引：11

作者：

PLISKIN, WA

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2426667

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：620 / &

共 7 条

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