SUBSTITUENT POSITIONAL VARIATIONS AND THE LITHOGRAPHIC PROPERTIES OF POLY(METHYLSTYRENE-CO-CHLOROMETHYLSTYRENE) RESIST SYSTEMS

被引：11

作者：

GRIFFITHS, LG ^{[1
]}

JONES, RG ^{[1
]}

BRAMBLEY, DR ^{[1
]}

TATE, PM ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV KENT,CHEM LAB,CANTERBURY CT2 7NH,KENT,ENGLAND

来源：

MAKROMOLEKULARE CHEMIE-MACROMOLECULAR SYMPOSIA | 1989年 / 24卷

关键词：

D O I：

10.1002/masy.19890240120

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页数：7