SOME COMMENTS ON THERMAL ETCHING OF SILICON SURFACES TREATED IN SEALED QUARTZ TUBES

被引：7

作者：

KNOPP, AN

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1963年 / 110卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2425677

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

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共 2 条

[1] DILLON JA, THERMAL ETCHING SILI
[2] SMITS FM, 1956, INT S SEMICONDUCTORS