A NEW METHOD FOR DETERMINING ELECTRON-BEAM PROXIMITY CORRECTION PARAMETERS IN A DOUBLE-LAYER SILOXANE-DIAZO RESIST SYSTEM

被引：2

作者：

JONES, F

PARASZCZAK, J

SPETH, A

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.333305

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：3092 / 3097

页数：6

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共 5 条

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