LASER-INDUCED SPUTTERING OF OXIDES AND COMPOUND SEMICONDUCTORS

被引:29
作者
NAKAYAMA, T
OKIGAWA, M
ITOH, N
机构
关键词
D O I
10.1016/0168-583X(84)90084-3
中图分类号
TH7 [仪器、仪表];
学科分类号
0804 ; 080401 ; 081102 ;
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页码:301 / 306
页数:6
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