CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION FOR SILICON CLADDING ON ADVANCED CERAMICS

被引：6

作者：

GOELA, JS

TAYLOR, RL

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1111/j.1151-2916.1989.tb06319.x

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1747 / 1750

页数：4

共 11 条

[1]

ANTHONY FM, 1981, SPIE, V297, P196

[2]

GOELA JG, 1989, SPIE P, V1161

GOELA, JS ;

TAYLOR, RL .

[4]

GOELA JS, 1989, SPIE P, V1047, P198

[5]

GOELA JS, 1987, NASA SBVIR CVD90691

[6]

GOELA JS, 1987, AFWALTR864131 AIR FO

[7]

MAGUIRE EA, 1986, RAYRDM4410 RAYTH RES

[8]

MAGUIRE EA, 1986, AFWALTR864128 AIR FO

[9]

PICKERING M, 1987, AFWALTR874016 AIR FO

[10]

PICKERING MA, 1987, CVD TR033 REP