OBSERVATION OF ETCHING OF N-TYPE SILICON IN AQUEOUS HF SOLUTIONS

被引：62

作者：

HU, SM

KERR, DR

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1967年 / 114卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2426612

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：414 / &

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共 2 条

[1] CONWAY BE, 1965, ELECTRODE PROCESSES, P81
[2] Temkin M.I., 1941, ZH FIZ KHIM, V15, P296, DOI DOI 10.1016/J.MICROMESO.2017.02.015