END-HALL ION-SOURCE

被引：140

作者：

KAUFMAN, HR

ROBINSON, RS

SEDDON, RI

机构：

[1] COMMONWEALTH SCI CORP,ALEXANDRIA,VA 22314

[2] COLORADO STATE UNIV,FT COLLINS,CO 80523

[3] OPT COATING LAB,SANTA ROSA,CA 95407

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1987年 / 5卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.574924

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页数：4