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CARRIER LIFETIME IN MBE GROWN SI-SB AND SI-IN LAYERS MEASURED BY THE TRANSIENT GRATING METHOD
被引:8
作者
:
GRIVITSKAS, V
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GRIVITSKAS, V
WILLANDER, M
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WILLANDER, M
NOREIKA, D
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NOREIKA, D
PETRAUSKAS, M
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PETRAUSKAS, M
KNALL, J
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KNALL, J
NI, WX
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NI, WX
机构
:
来源
:
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY
|
1988年
/ 3卷
/ 11期
关键词
:
D O I
:
10.1088/0268-1242/3/11/006
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:1116 / 1121
页数:6
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