MODEL OF ETCHING PROFILES FOR ION ENERGY FLUX DEPENDENT ETCH RATES IN A COLLISIONLESS PLASMA SHEATH (VOL 77, PG 3445, 1995)

被引：1

作者：

ABRAHAMSHRAUNER, B

WANG, CDD

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1995年 / 78卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1063/1.360785

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

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共 1 条

[1] MODEL OF ETCHING PROFILES FOR ION ENERGY FLUX DEPENDENT ETCH RATES IN A COLLISIONLESS PLASMA SHEATH [J].

ABRAHAMSHRAUNER, B ;

WANG, CD .

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1995, 77 (07) :3445-3449