CHEMICAL DECOMPOSITION AND PRESSURE RISE IN GASEOUS AND LIQUID C2CL3F3 UNDER INTERNAL ARC STRESS

被引：5

作者：

FACKLAM, T

机构：

来源：

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRICAL INSULATION | 1985年 / 20卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1109/TEI.1985.348856

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

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页码：375 / 379

页数：5

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共 7 条

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