SI-29 HYPERFINE MEASUREMENTS IN A-SI-H

被引：3

作者：

BIEGELSEN, DK

STUTZMANN, M

机构：

[1] Xerox Palo Alto Research Cent, Palo, Alto, CA, USA, Xerox Palo Alto Research Cent, Palo Alto, CA, USA

来源：

关键词：

*Work supported by the Solar Energy Research Institute;

D O I：

10.1016/0022-3093(85)90755-0

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：703 / 706

页数：4

共 5 条

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BIEGELSEN DK, UNPUB

[2]

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