DEVELOPMENT OF NANOMETRIC ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM (JBX-5D-II)

被引：8

作者：

SHEARER, MH ^{[1
]}

TAKEMURA, H ^{[1
]}

ISOBE, M ^{[1
]}

GOTO, N ^{[1
]}

TANAKA, K ^{[1
]}

MIYAUCHI, S ^{[1
]}

机构：

[1] JEOL LTD, TOKYO 196, JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1986年 / 4卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583352

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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