SUBSTRATE TEMPERATURE-MEASUREMENT DURING ION-IMPLANTATION

被引：17

作者：

WADA, Y ^{[1
]}

USUI, H ^{[1
]}

ASHIKAWA, M ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1975年 / 14卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.14.1351

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1351 / 1356

页数：6

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共 5 条

[1]

FREEMAN JH, 1970, P EUROP C ION IMPLAN, P74

[2]

Ikeda T., 1975, Oyo Buturi, V44, P311

[3]

KOHLRAUSCH F, 1955, PRAKTISCHE PHYSIK

[4]

Lindhard J., 1963, KGL DANSKE VIDENSKAB, V33

[5]

WARABISAKO T, 1973, J JAP SOC APPL PHY S, V42, P181