CORRELATION BETWEEN THE LOCATION OF THE INTERFACE STATE MINIMUM AT INSULATOR-SEMICONDUCTOR INTERFACES AND SCHOTTKY-BARRIER HEIGHTS

被引：4

作者：

OHNO, H

HASEGAWA, H

机构：

[1] Hokkaido Univ, Sapporo, Jpn, Hokkaido Univ, Sapporo, Jpn

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1986年 / 25卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.25.L353

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L353 / L356

页数：4