MELTING TEMPERATURES OF REFRACTORY OXIDES .2. LANTHANOID SESQUIOXIDES

被引：45

作者：

COUTURES, JP ^{[1
]}

RAND, MH ^{[1
]}

机构：

[1] HARWELL LAB,DIV MAT DEV,DIDCOT OX11 0RA,OXON,ENGLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1351/pac198961081461

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

引用

页码：1461 / 1482

页数：22

共 31 条

ACKERMANN, RJ ;

RAUH, EG .

[2]

ACKERMANN RJ, 1978, REV INT HAUTES TEMP, V15, P259

[3]

ACKERMANN RJ, 1973, J CHEM THERMODYN, V3, P609

[4]

ACKERMANN RJ, COMMUNICATION

[5]

BENEZECH G, 1969, CR ACAD SCI C CHIM, V268, P2315

[6]

Cabannes F., 1972, High Temperatures - High Pressures, V4, P589

[7]

CHIKALLA TD, 1971, 205 C INT CNRS, P351

[8]

COUTURES JP, 1972, CR ACAD SCI C CHIM, V275, P1203

[9]

COUTURES JP, 1975, REV INT HAUTES TEMP, V12, P181

[10]

COUTURES JP, COMMUNICATION