X-RAY GRAZING-INCIDENCE DIFFRACTION FROM ALKYLSILOXANE MONOLAYERS ON SILICON-WAFERS (J CHEM PHYS, VOL 95, PG 2854, 1991)

被引：3

作者：

TIDSWELL, IM

RABEDEAU, TA

PERSHAN, PS

KOSOWSKY, SD

FOLKERS, JP

WHITESIDES, GM

机构：

[1] HARVARD UNIV,DIV APPL SCI,CAMBRIDGE,MA 02138

[2] HARVARD UNIV,DEPT CHEM,CAMBRIDGE,MA 02138

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.465126

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

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