DISCUSSION ON MECHANISM OF PHOTODOPING

被引：69

作者：

KOKADO, H ^{[1
]}

SHIMIZU, I ^{[1
]}

INOUE, E ^{[1
]}

机构：

[1] TOKYO INST TECHNOL,IMAGING SCI & ENGN LAB,MIDORI,YOKOHAMA,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3093(76)90112-5

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：131 / 139

页数：9

共 9 条

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