OPTICAL-HETERODYNE DETECTION OF MASK-TO-WAFER DISPLACEMENT FOR FINE ALIGNMENT

被引：4

作者：

ITOH, J

KANAYAMA, T

机构：

[1] Electrotechnical Lab, Sakura-mura, Jpn, Electrotechnical Lab, Sakura-mura, Jpn

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1986年 / 25卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.25.L684

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L684 / L686

页数：3