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HIGH-QUALITY A-SI FILMS PREPARED BY THE DIRECT PHOTO-CVD METHOD
被引:1
作者
:
NAKANO, S
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NAKANO, S
WAKISAKA, K
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WAKISAKA, K
KAMEDA, M
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KAMEDA, M
ISOMURA, M
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ISOMURA, M
MATSUYAMA, T
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MATSUYAMA, T
NAKAMURA, N
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NAKAMURA, N
TSUDA, S
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TSUDA, S
OHNISHI, M
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OHNISHI, M
KUWANO, Y
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KUWANO, Y
机构
:
来源
:
AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY - 1989
|
1989年
/ 149卷
关键词
:
D O I
:
10.1557/PROC-149-417
中图分类号
:
O64 [物理化学(理论化学)、化学物理学];
学科分类号
:
070304 ;
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:417 / 422
页数:6
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