STUDIES OF OPTIMUM CONDITIONS FOR GROWTH OF RF-SPUTTERED ZNO FILMS

被引:81
作者
KHURIYAKUB, BT [1 ]
KINO, GS [1 ]
GALLE, P [1 ]
机构
[1] STANFORD UNIV,MICROWAVE LAB,STANFORD,CA 94305
关键词
D O I
10.1063/1.322054
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:3266 / 3272
页数:7
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