HIGH-QUALITY POLYSILICON BY AMORPHOUS LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：100

作者：

HARBEKE, G ^{[1
]}

KRAUSBAUER, L ^{[1
]}

STEIGMEIER, EF ^{[1
]}

WIDMER, AE ^{[1
]}

KAPPERT, HF ^{[1
]}

NEUGEBAUER, G ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV DORTMUND,INST PHYS,D-4600 DORTMUND 50,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.93904

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：249 / 251

页数：3