INTERNAL-STRESS OF THIN SILVER, COPPER, GOLD AND CHROMIUM FILMS - A COMPARISON

被引：18

作者：

ABERMANN, R ^{[1
]}

KOCH, R ^{[1
]}

MARTINZ, HP ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV INNSBRUCK, INST PHYS CHEM, A-6020 INNSBRUCK, AUSTRIA

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(83)90643-7

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：871 / 873

页数：3

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共 2 条

ABERMANN, R ;

KRAMER, R ;

MASER, J .

KOCH, R ;

LEONHARD, H ;

ABERMANN, R .