TEMPORARY PROTECTION OF SILICON SURFACES BY IODINE FILMS

被引：21

作者：

LIEBERMAN, R

KLEIN, DL

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1966年 / 113卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2424165

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：956 / +

页数：1

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共 2 条

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FINNE RM, 1964, J ELECTROCHEM SOC, V111, pC63

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