共 4 条
- [1] ALEXANDER JH, 1968, OCT EL SOC FALL M MO, P343
- [2] PREPARATION AND PROPERTIES OF THIN FILM BORON NITRIDE[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1968, 115 (04) : 423 - &RAND, MJROBERTS, JF
- [4] SCHAFFER PS, 1964, AF196281616 CONTR
STRUCTURE AND PROPERTIES OF BORON-NITRIDE FILMS GROWN BY HIGH-TEMPERATURE REACTIVE PLASMA DEPOSITION
被引：56
作者：
HYDER, SB
[1
]
YEP, TO
[1
]
机构：
[1] VARIAN ASSOC,CORP SOLID STATE LAB,PALO ALTO,CA 94303
关键词：
D O I：
10.1149/1.2132677
中图分类号：
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号：
081704 ;
摘要：
引用
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页码：1721 / 1724
页数：4
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