TARGET EROSION PATTERN IN PLANAR MAGNETRON SPUTTERING

被引：10

作者：

FUKAMI, T

SAKUMA, T

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1982年 / 21卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.21.1680

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1680 / 1683

页数：4

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共 6 条

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