VACUUM CONDITIONS FOR SPUTTERING THIN-FILM TINI

被引：10

作者：

JARDINE, AP

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A | 1995年 / 13卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.579585

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1058 / 1062

页数：5

共 9 条

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