OPTICAL ETCH-RATE MONITORING - COMPUTER-SIMULATION OF REFLECTANCE

被引：22

作者：

HEIMANN, PA

SCHUTZ, RJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2115720

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：881 / 885

页数：5

共 11 条

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