PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERNING OF COPPER PARTICULATE FILMS

被引：1

作者：

ADAMS, R

RHINE, WE

BOWEN, HK

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1989年 / 136卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2096491

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：3486 / 3489

页数：4

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