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PROCESS UNIFORMITY AND SLIP DISLOCATION PATTERNS IN LINEARLY RAMPED-TEMPERATURE TRANSIENT RAPID THERMAL-PROCESSING OF SILICON
被引：18
作者：
MOSLEHI, MM
机构：
关键词：
D O I：
10.1109/66.44616
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
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页码：130 / 140
页数：11
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