UHV - DEPOSITED AMORPHOUS TANTALUM AND TANTALUM-NICKEL FILMS

被引：9

作者：

SCHAFER, A ^{[1
]}

MENZEL, G ^{[1
]}

机构：

[1] TECH UNIV MUNICH,LEHRSTUHL MET & METALLKUNDE,D-8000 MUNICH 2,FED REP GER

来源：

ELECTROCOMPONENT SCIENCE AND TECHNOLOGY | 1977年 / 4卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1155/APEC.4.29

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页数：7